Внести пробу: 600 \(\mu L\)
TLC
\(Silica~gel~60\)
\([Hexane/Et_2O; 6/4, v/v]\): 10 \(mL\)
каждая отдельно
Отобрать пробы \(PL_{21}\), \(PL_{22}\), \(PL_{31}\), \(PL_{32}\)
Смыть:
Внести \([CHCl_3/MeOH; 2/1, v/v]\): 1700 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать жидкую фазу в 2 пробы: \(PL_2\), \(PL_3\)
Внести \([CHCl_3/MeOH; 2/1, v/v]\): 850 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать жидкую фазу (добавить соответственно в пробы \(PL_2\), \(PL_3\))
Очистить:
Внести \(H_2O\): 1700 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать нижнюю фазу в пробу \(PL\)
Упарить досуха в токе \(Ar\)
ID |
\(m_0, g\) |
\(m_1, g\) |
\(m_2, g\) |
\(PL\) |
2.4821 |
2.4871 |
0.0050 |
Масса пустой пробирки
Масса пробирки с пробой
Масса пробы
Внести \([CHCl_3/Et_2O; 1/1, v/v]\): 400 \(\mu L\)
TLC (первое измерение)
\(Silica~gel~60\)
\([CHCl_3/MeOH/H_2O; 30/10/1, v/v/v]\): 10 \(mL\)
Опрыскать \(Primuline\)
Отобрать пробы \(A\), \(B\), \(C\), \(D\)
ID |
Lower |
Middle |
Upper |
RF |
A |
9 |
14 |
19 |
0.14 |
B |
30 |
34.5 |
39 |
0.35 |
C |
50 |
56.5 |
63 |
0.57 |
D |
70 |
75.5 |
81 |
0.76 |
FL |
- |
99 |
- |
1.00 |
Идентификатор пробы
Линия фронта
Нижняя граница пробы
Среднее арифметическое нижней и верхней границ
Верхняя граница пробы
Относительный коэффициент удерживания
Внести \([CHCl_3/MeOH; 2/1, v/v]\): 1500 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать жидкую фазу
Внести \(H_2O\): 300 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать нижнюю фазу
Упарить досуха в токе \(Ar\)
Внести \([CHCl_3/MeOH; 2/1, v/v]\): ~ 100 \(\mu L\)
TLC (второе измерение)
\(Silica~gel~60\)
\([CHCl_3/MeOH/Acetic~acid/H_2O; 80/9/12/2, v/v/v/v]\): 10 \(mL\)
Опрыскать \(Primuline\)
Отобрать пробы \(A_1\), \(A_2\), \(B_1\), \(C_1\), \(C_2\), \(C_3\), \(C_4\), \(C_5\), \(D_1\), \(D_2\), \(D_3\), \(D_4\)
Внести \([CHCl_3/MeOH; 2/1, v/v]\): 1500 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать жидкую фазу
Внести \(H_2O\): 400 \(\mu L\)
Центрифугировать 3 \(min\), 2300 \(g\)
Отобрать нижнюю фазу
Упарить досуха под вакуумом
Внести \([CHCl_3/Et_2O; 1/2, v/v]\): 150 \(\mu L\)